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研究报告

    中国电子工程用高纯硅烷市场发展趋势与前景动态分析报告2020-2025年

    更新时间:2024-05-05   浏览数:64
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    中国电子工程用高纯硅烷市场发展趋势与前景动态分析报告2020-2025年
    【报告编号】: 295184
    【出版时间】: 2020年1月
    【出版机构】: 中研智业研究院
    【交付方式】: EMIL电子版或特快专递
    【报告价格】:【纸质版】:6500元 【电子版】: 6800元 【纸质+电子】: 7000元
    【联 系 人】: 杨静--客服专员
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    【报告目录】

    * 一章 半导体、光伏产业用高纯硅烷概述16
    1.1 高纯硅烷简介16
    1.2 高纯硅烷的主要基本性能与质量指标17
    1.3 高纯硅烷的主要应用领域18
    1.4 高纯硅烷在发展我国电子工业中的重要作用19
    *二章 电子特种气体及其应用市场20
    2.1 电子特种气体概述20
    2.2 电子特种气体制造中的主要技术方面21
    2.3 电子特种气体的纯净度要求23
    2.4 电子特种气体产品市场竞争的焦点问题25
    2.4.1 对电子特种气体杂质、纯度要求的问题25
    2.4.2 气体配送及供应问题26
    2.4.3 储存、使用中的安全性问题27
    2.4.4 成本性问题28
    2.5 国内外电子特种气体行业发展概述29
    2.5.1 境外电子特种气体生产与市场情况29
    2.5.2 国内电子特种气体行业及其发展30
    *三章 高纯硅烷气体性能指标及制备、净化的工艺路线33
    3.1 高纯硅烷的性能指标33
    3.2 高纯硅烷工业化制备的典型工艺路线34
    3.2.1 制备工艺法概述34
    3.2.2 硅化镁合金法制备硅烷34
    3.2.2.1 工艺过程34
    3.2.2.2 主要反应36
    3.2.2.3 工艺特点36
    3.2.2.4 工艺法存在的问题37
    3.2.3 三氯氢硅还原法制备硅烷37
    3.2.3.1 工艺过程37
    3.2.3.2 主要反应39
    3.2.3.3 工艺特点39
    3.2.3.4 工艺法存在的问题40
    3.2.4 四氟化硅还原法制备硅烷41
    3.2.4.1 工艺过程41
    3.2.4.2 主要反应41
    3.2.4.3 工艺特点41
    3.2.4.4 工艺法存在的问题42
    3.2.5 氯硅烷歧化法制备硅烷42
    3.2.5.1 工艺过程42
    3.2.5.2 主要反应42
    3.2.5.3 工艺特点42
    3.2.5.4 工艺法存在的问题43
    3.2.6 烷氧基硅烷歧化法43
    3.2.6.1 工艺过程43
    3.2.6.2 主要反应44
    3.2.6.3 工艺特点44
    3.2.6.4 工艺法存在的问题44
    3.3 高纯硅烷气体的净化工艺路线45
    3.3.1 气体的净化方法概述45
    3.3.2 高纯硅烷的净化过程45
    3.4 工业高纯硅烷气体的包装及贮运46
    *四章 国内外高纯硅烷生产与主要企业现况47
    4.1 世界高纯硅烷产销、市场规模的概况47
    4.2 国外高纯硅烷主要生产企业产销情况47
    4.3 国外高纯硅烷主要生产企业简况48
    4.3.1 REC Silicon公司48
    4.3.2 Dowcorning公司51
    4.3.3 SODIFF新素材有限公司54
    4.3.4 MEMC公司57
    4.3.5 Air Liquid公司60
    4.3.6 日本电气工业公司64
    4.3.7 大阳日酸公司67
    4.3.8 Evonik Industries公司70
    4.4 国内硅烷业的发展概述72
    4.4.1 我国高纯硅烷业发展的概述72
    4.4.2 我国硅烷研发、生产的历史74
    4.5 国内高纯硅烷生产企业现况75
    4.5.1 国内高纯硅烷生产企业总述75
    4.5.2 浙江中宁硅业有限公司75
    4.5.3 浙江赛林硅业有限公司81
    4.5.4 滁州市硅谷特种气体有限公司88
    4.5.5 六九硅业有限公司95
    4.5.6 浙江金华美晶硅电子有限公司102
    4.5.7 黑龙江金业电子气体股份有限公司108
    4.5.8 深圳市金业长健新材料股份有限公司115
    *五章 高纯硅烷主要应用领域的概述122
    5.1 高纯硅烷在集成电路中的应用122
    5.1.1 集成电路芯片制程122
    5.1.2 化学气相沉积和气体应用122
    5.1.3 高纯硅烷在化学气相沉积中作为气源形成的薄膜131
    5.2 高纯硅烷在薄膜硅太阳电池中的应用132
    5.2.1 非晶硅薄膜太阳能电池132
    5.2.2 Si薄膜的材料特性132
    5.2.3 非晶硅薄膜太阳能电池制作工艺及高纯硅烷其应用136
    5.3 高纯硅烷在液晶显示器中的应用138
    5.3 高纯硅烷在液晶显示器中的应用139
    5.4 高纯硅烷在其它领域的应用139
    5.4.1 在特种玻璃制造中的应用139
    5.4.2 在电子部件制造中的应用140
    5.4.3 在化合物半导体材料制造中的应用140
    5.5 高纯硅烷在电子信息产品中应用市场需求量的测算141
    *六章 高纯硅烷主要应用市场之一—集成电路产业的现况与趋势143
    6.1 世界半导体硅片生产与市场发展143
    6.1.1 世界半导体生产的现况143
    6.1.2 世界半导体硅片的生产状况145
    6.2 我国半导体晶圆生产与市场现况与发展145
    6.2.1 我国集成电路市场、产业发展现状145
    6.2.2 我国集成电路晶圆制造业情况153
    *七章 高纯硅烷主要应用市场之二 —薄膜太阳能电池产业的现况与趋势154
    7.1 国内外光伏产业的发展154
    7.1.1 世界光伏产业的快速发展154
    7.1.2 我国光伏产业发展环境与现况155
    7.2 薄膜太阳能电池的生产与市场163
    7.2.1 薄膜太阳能电池特点及品种163
    7.2.2 薄膜太阳能电池未来市场发展前景171
    7.2.3 薄膜太阳能电池生产及在光伏市场上的份额变化174
    7.3 国内外薄膜太阳能电池的主要生产企业175
    *八章 高纯硅烷主要应用市场之三 —液晶显示器产业的现况与趋势180
    8.1 世界平板显示器产业发展现况180
    8.2 我国平板显示器产业现况与未来发展预测181
    8.2.1 我国液晶显示产业发展概述181
    8.2.2 我国LCD面板生产现况与未来几年发展预测183
    8.2.3 我国发展平板显示产业的相关政策及未来发展的预测、分析185
     
    图表目录
    图表 1 硅烷性能比较18
    图表 2 气体按其特性分类图21
    图表 3 杂质对硅低温选择性外延沉积的影响24
    图表 4 露点与集成度的关系25
    图表 5 微粒直径与集成度的关系25
    图表 6 特殊气体供应流程图27
    图表 7 硅烷的性能指标33
    图表 8 氢化锂还原三氯氢硅制备硅烷工艺流程图38
    图表 9 2017-2019年11月世界高纯硅烷产销分析47
    图表 10 2017-2019年11月世界高纯硅烷市场规模分析47
    图表 11 2018年国外高纯硅烷主要生产企业产销情况47
    图表 12  近4年REC Silicon公司   流动资产周转次数变化情况48
    图表 13  近4年REC Silicon公司   总资产周转次数变化情况49
    图表 14  近4年REC Silicon公司   销售毛利率变化情况49
    图表 15  近4年REC Silicon公司   资产负债率变化情况49
    图表 16  近4年REC Silicon公司   产权比率变化情况50
    图表 17  近4年REC Silicon公司   固定资产周转次数情况50
    图表 18  近4年Dowcorning公司流动资产周转次数变化情况52
    图表 19  近4年Dowcorning公司总资产周转次数变化情况52
    图表 20  近4年Dowcorning公司销售毛利率变化情况52
    图表 21  近4年Dowcorning公司资产负债率变化情况53
    图表 22  近4年Dowcorning公司产权比率变化情况53
    图表 23  近4年Dowcorning公司固定资产周转次数情况54
    图表 24  近4年SODIFF新素材有限公司流动资产周转次数变化情况55
    图表 25  近4年SODIFF新素材有限公司总资产周转次数变化情况55
    图表 26  近4年SODIFF新素材有限公司销售毛利率变化情况55
    图表 27  近4年SODIFF新素材有限公司资产负债率变化情况56
    图表 28  近4年SODIFF新素材有限公司产权比率变化情况56
    图表 29  近4年SODIFF新素材有限公司固定资产周转次数情况57
    图表 30  近4年MEMC公司流动资产周转次数变化情况58
    图表 31  近4年MEMC公司总资产周转次数变化情况58
    图表 32  近4年MEMC公司销售毛利率变化情况59
    图表 33  近4年MEMC公司资产负债率变化情况59
    图表 34  近4年MEMC公司产权比率变化情况59
    图表 35  近4年MEMC公司固定资产周转次数情况60
    图表 36  近4年Air Liquid公司流动资产周转次数变化情况61
    图表 37  近4年Air Liquid公司总资产周转次数变化情况62
    图表 38  近4年Air Liquid公司销售毛利率变化情况62
    图表 39  近4年Air Liquid公司资产负债率变化情况63
    图表 40  近4年Air Liquid公司产权比率变化情况63
    图表 41  近4年Air Liquid公司固定资产周转次数情况63
    图表 42  近4年日本电气工业公司流动资产周转次数变化情况64
    图表 43  近4年日本电气工业公司总资产周转次数变化情况65
    图表 44  近4年日本电气工业公司销售毛利率变化情况65
    图表 45  近4年日本电气工业公司资产负债率变化情况65
    图表 46  近4年日本电气工业公司产权比率变化情况66
    图表 47  近4年日本电气工业公司固定资产周转次数情况66
    图表 48  近4年大阳日酸公司流动资产周转次数变化情况67
    图表 49  近4年大阳日酸公司总资产周转次数变化情况67
    图表 50  近4年大阳日酸公司销售毛利率变化情况68
    图表 51  近4年大阳日酸公司资产负债率变化情况68
    图表 52  近4年大阳日酸公司产权比率变化情况69
    图表 53  近4年大阳日酸公司固定资产周转次数情况69
    图表 54  近4年Evonik Industries公司流动资产周转次数变化情况70
    图表 55  近4年Evonik Industries公司总资产周转次数变化情况70
    图表 56  近4年Evonik Industries公司销售毛利率变化情况71
    图表 57  近4年Evonik Industries公司资产负债率变化情况71
    图表 58  近4年Evonik Industries公司产权比率变化情况72
    图表 59  近4年Evonik Industries公司固定资产周转次数情况72
    图表 60  2017-2019年11月国内高纯硅烷生产分析75
    图表 61  近4年浙江中宁硅业有限公司固定资产周转次数情况76
    图表 62  近4年浙江中宁硅业有限公司固定资产周转次数变化情况76
    图表 63  近4年浙江中宁硅业有限公司流动资产周转次数变化情况76
    图表 64  近4年浙江中宁硅业有限公司流动资产周转次数变化情况77
    图表 65  近4年浙江中宁硅业有限公司销售毛利率变化情况77
    图表 66  近4年浙江中宁硅业有限公司销售毛利率变化情况78
    图表 67  近4年浙江中宁硅业有限公司资产负债率变化情况78
    图表 68  近4年浙江中宁硅业有限公司资产负债率变化情况79
    图表 69  近4年浙江中宁硅业有限公司产权比率变化情况79
    图表 70  近4年浙江中宁硅业有限公司产权比率变化情况79
    图表 71  近4年浙江中宁硅业有限公司总资产周转次数变化情况80
    图表 72  近4年浙江中宁硅业有限公司总资产周转次数变化情况80
    图表 73  近4年浙江赛林硅业有限公司固定资产周转次数情况82
    图表 74  近4年浙江赛林硅业有限公司固定资产周转次数变化情况82
    图表 75  近4年浙江赛林硅业有限公司流动资产周转次数变化情况83
    图表 76  近4年浙江赛林硅业有限公司流动资产周转次数变化情况83
    图表 77  近4年浙江赛林硅业有限公司销售毛利率变化情况84
    图表 78  近4年浙江赛林硅业有限公司销售毛利率变化情况84
    图表 79  近4年浙江赛林硅业有限公司资产负债率变化情况85
    图表 80  近4年浙江赛林硅业有限公司资产负债率变化情况85
    图表 81  近4年浙江赛林硅业有限公司产权比率变化情况86
    图表 82  近4年浙江赛林硅业有限公司产权比率变化情况86
    图表 83  近4年浙江赛林硅业有限公司总资产周转次数变化情况87
    图表 84  近4年浙江赛林硅业有限公司总资产周转次数变化情况87
    图表 85  近4年滁州市硅谷特种气体有限公司固定资产周转次数情况89
    图表 86  近4年滁州市硅谷特种气体有限公司固定资产周转次数变化情况89
    图表 87  近4年滁州市硅谷特种气体有限公司流动资产周转次数变化情况90
    图表 88  近4年滁州市硅谷特种气体有限公司流动资产周转次数变化情况90
    图表 89  近4年滁州市硅谷特种气体有限公司销售毛利率变化情况91
    图表 90  近4年滁州市硅谷特种气体有限公司销售毛利率变化情况91
    图表 91  近4年滁州市硅谷特种气体有限公司资产负债率变化情况92
    图表 92  近4年滁州市硅谷特种气体有限公司资产负债率变化情况92
    图表 93  近4年滁州市硅谷特种气体有限公司产权比率变化情况93
    图表 94  近4年滁州市硅谷特种气体有限公司产权比率变化情况93
    图表 95  近4年滁州市硅谷特种气体有限公司总资产周转次数变化情况94
    图表 96  近4年滁州市硅谷特种气体有限公司总资产周转次数变化情况94
    图表 97  近4年六九硅业有限公司固定资产周转次数情况96
    图表 98  近4年六九硅业有限公司固定资产周转次数情况96
    图表 99  近4年六九硅业有限公司流动资产周转次数变化情况97
    图表 100  近4年六九硅业有限公司流动资产周转次数变化情况97
    图表 101  近4年六九硅业有限公司销售毛利率变化情况98
    图表 102  近4年六九硅业有限公司销售毛利率变化情况98
    图表 103  近4年六九硅业有限公司资产负债率变化情况99
    图表 104  近4年六九硅业有限公司资产负债率变化情况99
    图表 105  近4年六九硅业有限公司产权比率变化情况100
    图表 106  近4年六九硅业有限公司产权比率变化情况100
    图表 107  近4年六九硅业有限公司总资产周转次数变化情况101
    图表 108  近4年六九硅业有限公司总资产周转次数变化情况101
    图表 109  近4年浙江金华美晶硅电子有限公司固定资产周转次数情况102
    图表 110  近4年浙江金华美晶硅电子有限公司固定资产周转次数情况103
    图表 111  近4年浙江金华美晶硅电子有限公司流动资产周转次数变化情况103
    图表 112  近4年浙江金华美晶硅电子有限公司流动资产周转次数变化情况103
    图表 113  近4年浙江金华美晶硅电子有限公司销售毛利率变化情况104
    图表 114  近4年浙江金华美晶硅电子有限公司销售毛利率变化情况104
    图表 115  近4年浙江金华美晶硅电子有限公司资产负债率变化情况105
    图表 116  近4年浙江金华美晶硅电子有限公司资产负债率变化情况105
    图表 117  近4年浙江金华美晶硅电子有限公司产权比率变化情况106
    图表 118  近4年浙江金华美晶硅电子有限公司产权比率变化情况106
    图表 119  近4年浙江金华美晶硅电子有限公司总资产周转次数变化情况107
    图表 120  近4年浙江金华美晶硅电子有限公司总资产周转次数变化情况107
    图表 121  近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司固定资产周转次数情况109
    图表 122  近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司固定资产周转次数情况109
    图表 123  近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司流动资产周转次数变化情况110
    图表 124  近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司流动资产周转次数变化情况110
    图表 125  近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司销售毛利率变化情况111
    图表 126  近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司销售毛利率变化情况111
    图表 127  近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司资产负债率变化情况112
    图表 128  近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司资产负债率变化情况112
    图表 129  近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司产权比率变化情况113
    图表 130  近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司产权比率变化情况113
    图表 131  近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司总资产周转次数变化情况114
    图表 132  近4年黑龙江金业电子气体股份有限公司总资产周转次数变化情况114
    图表 133  近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司固定资产周转次数情况116
    图表 134  近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司固定资产周转次数情况116
    图表 135  近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司流动资产周转次数变化情况116
    图表 136  近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司流动资产周转次数变化情况117
    图表 137  近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司销售毛利率变化情况117
    图表 138  近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司销售毛利率变化情况118
    图表 139  近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司资产负债率变化情况118
    图表 140  近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司资产负债率变化情况119
    图表 141  近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司产权比率变化情况119
    图表 142  近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司产权比率变化情况119
    图表 143  近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司总资产周转次数变化情况120
    图表 144  近4年深圳市金业长健新材料股份有限公司总资产周转次数变化情况120
    图表 145 TiC涂层的模型123
    图表 146 CVD法的反应类型和所沉积材料125
    图表 147  CVD采用的加热方式126
    图表 148 开口体系CVD设备示意图126
    图表 149 几种开口体系的反应器示意图127
    图表 150 制备ZnSe单晶设备示意图128
    图表 151 非晶硅太阳能电池结构图132
    图表 152 非晶硅柔性太阳能电池133
    图表 153 大面积集成型叠层太阳能电池135
    图表 154 子电池示意图135
    图表 155 非晶硅太阳电池的制备流程136
    图表 156 2018-2021年我国高纯硅烷在电子信息产品中应用市场需求量的测算141
    图表 157 2017-2019年11月**半导体材料销售分析143
    图表 158 2017-2019年11月**半导体材料销售分析145
    图表 159 2017-2019年11月世界半导体硅片出货量分析145
    图表 160 2017-2019年11月我国集成电路行业增长情况146
    图表 161 2018年我国集成电路出口情况147
    图表 162 2018年集成电路产业内销产值增长情况147
    图表 163 2017-2019年11月我国集成电路固定资产投资增长情况148
    图表 164 2018年我国集成电路行业经济效益增长情况148
    图表 165 2017-2019年11月我国集成电路晶圆制造业发展规模分析153
    图表 166 不同薄膜太阳能电池研究应用水平164
    图表 167 现有各种太阳能电池比较171
    图表 168 中国大陆高世代面板线产能分布184
    图表 169 中国大陆待投产高世代面板线184
    图表 170 国家新型显示产业政策186
    图表 171 各省市新型显示产业政策187


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